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合见工软发布多款国产EDA新品 引领芯片设计产业迈向新高度

   时间:2026-09-02 05:37 来源:快讯作者:冯璃月

在近日举办的2026 IDAS设计自动化产业峰会上,中国数字EDA/IP领域的领军企业上海合见工业软件集团股份有限公司(简称“合见工软”)发布了多款具有里程碑意义的创新产品,标志着国产EDA技术迈入全新发展阶段。此次发布的成果涵盖智能体战略体系、三维芯片物理设计工具及先进工艺节点收敛工具等多个领域,填补了国内多项技术空白,为本土半导体产业的高端化发展提供了关键支撑。

作为国产EDA领域的创新标杆,合见工软此次发布的Agentic EDA智能体战略体系成为全场焦点。该体系以“目标驱动”为核心架构,首次推出国内首款专用于数字芯片验证全流程的EDA智能体套件UniVista Verification GOAT。该套件深度融合AI技术与EDA工具,覆盖软件仿真、验证调试、回归测试管理及硬件仿真等四大关键环节,通过构建验证目标、工程方法论与工具反馈的闭环体系,显著提升芯片验证效率。与传统通用智能体不同,UniVista Verification GOAT强调“人机协同”,工程师可基于完整证据链进行最终决策,确保验证结果的可靠性与可追溯性。

在AI赋能的专项工具领域,合见工软同步推出MBIST全流程平台UniVista Tespert AIMBIST与PCB板级智能体软件UniVista Archer AI+。前者通过AI智能分组优化布线拥堵,实现30%以上的面积缩减,并支持多厂商测试数据兼容;后者则依托原生AI+EDA架构,支持自然语言驱动原理图设计,并集成企业自定义AI技能模块,为硬件研发提供全链路智能解决方案。这些工具的推出,标志着国产EDA在AI融合应用层面已形成完整生态。

三维芯片设计领域迎来重大突破。合见工软发布的国内首款三维芯片物理设计工具UniVista 3DIC Designer,专为国产先进工艺节点打造,支持2-die/3-die逻辑折叠及多裸片异构堆叠架构。该工具通过底层自研的真三维布局算法,突破传统2D设计的性能、功耗与面积限制,实现时序、功耗、面积及热分布的全局优化。其GPU并行加速技术可高效处理十亿门级大算力芯片设计,解决跨裸片时序收敛、垂直互连约束平衡等工程难题,为AI、HPC等高性能芯片提供自主可控的三维设计底座。

针对国产先进工艺量产需求,合见工软推出的UniVista NodeClosure工具填补了数字后端ECO环节的技术空白。该工具采用物理感知增量优化架构,可精准修复时序违例、逻辑缺陷及物理规则问题,大幅减少迭代次数。其“时序+DRC协同修复”技术可深度适配国产晶圆厂专属工艺规则,帮助设计团队在紧凑周期内完成高质量设计收敛,同时降低流片成本与风险。据介绍,该工具已在国内多家头部芯片企业完成部署,显著提升了复杂芯片的量产良率。

峰会期间,工业和信息化部及上海市经信委相关领导莅临合见工软展台,重点考察了国产数字EDA在智算超节点IP、三维设计技术等领域的突破。同期揭晓的第三届“中国芯”EDA专项奖中,合见工软的全功能高性能数字仿真器UniVista Simulator Plus (UVS+)荣获金口碑产品奖,印证了其产品在市场应用与用户口碑层面的双重认可。

经过六年持续迭代,合见工软已形成覆盖数字设计、可测性设计、先进工艺后端设计及高速互联IP的全链条产品布局。此次多领域创新成果的集中发布,不仅展现了国产EDA技术对标国际一线水平的能力,更通过架构级创新打破了传统工具的堆砌模式,为全球半导体产业贡献了中国方案。随着AI与三维集成技术的深度融合,国产EDA正加速推动芯片设计范式向更高维度跃迁。

 
 
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